[반도체] 포토리소그래피에 관한 조사[포토리소그래피의 원리, 작업공정, 사용 범위등에 대해]
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작성일 23-01-24 18:09
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말 그대로 석판인쇄술이라고 할 수 있다 여기서 기원한 것이 리소그라피이다.
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4)Develop
리소그라피는 리소(돌) + 그라피(인쇄술)의 합성어이다. 예전에는 상상으로만 해왔던 모든 일들이 지금 현실로 이루어져 있고, 앞으로는 어떠한 기술이 나타나게 될지 항상 기대하고 상상하게 한다.
설명
일상생활에서 누구나가 흔히 사용하는 컴퓨터, 스마트폰 등에는 반도체 소자가 core 부품으로 사용되는데 반도체 소자는 수십에서 수백 나노미터 크기의 패턴으로 이루어져있다
이것은 미술에 응용되기도 하고 오늘날에는 포토리소그라피라 하여 빛을 이용하여 그리는 것으로 반도체와 LCD공정에 이용된다
다.
순서
따라서 나는 이러한 core적인 역할을 한 포토리소그래피에 대해 살펴보고 더 나아가서는 포토리소그래피의 원리, 작업공정, 사용 범위등에 대해 알아보고자 한다.
시대는 變化하고 그 시대에 變化에 따라 과학기술 또한 매우 발전하였다. 인쇄술이라는 것은 자신이 원하는 대로 디자인하여 그리는 것을 말한다. 반도체 소자의 집적도는 매년 꾸준하게 증가하였으며 여기에 가장 core적인 역할을 한 것이 바로 포토리소그래피이다. 1. 서론
2. 본론
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2. 본론
2) Soft Bake
이러한 과학기술의 발전으로 인해 우리는 지금 매우 편리한 생활을 하고 있다 현대사회의
3.conclusion
1) Photoresist coat(PR코팅)
레포트 > 공학,기술계열
3) Photo exposure
1. 서론 2. 본론 1) Photoresist coat(PR코팅) 2) Soft Bake 3) Photo exposure 4)Develop 5)Hard bake 3.결론
반도체,포토리소그래피,포토리소그래피의 원리, 작업공정, 사용 범위
[반도체] 포토리소그래피에 관한 조사[포토리소그래피의 원리, 작업공정, 사용 범위등에 대해]
5)Hard bake
반도체 소자의 크기는 패턴의 크기에 달려 있기 때문에 패턴의 크기를 줄여 반도체 소자의 집적도를 높이는 것이 반도체 생산 공정에서는 매우 중요하다.
